Sharp IG-DC2E - Unit Penjanaan Ion Plasmacluster

MALAY
M-9
Unit Penjanaan Ion Plasmacluster (bahagian elektrod)
Setiap 6 bulan atau lebih kerap jika perlu
Jika mesej sedemikian dipaparkan, jalankan penyelenggaraan Unit
Penjanaan Ion Plasmacluster (bahagian elektrod).
Habuk, resin fluorin, atau silikon boleh melekat dan ion Plasmacluster
mungkin tidak dijana bergantung pada persekitaran penggunaan*. Jalankan
penyelenggaraan secara berkala.
Alihkan Unit Penjanaan Ion Plasmacluster dari unit utama yang merujuk kepada
“Penggantian Unit Penjanaan Ion Plasmacluster”. (Lihat M-11)
Buangkan habuk atau objek asing yang melekat pada elektrod (jarum) Unit Penjanaan
Ion Plasmacluster atau bahagian tepi dengan menggunakan putik kapas.
Lampu operasi “LOW” (RENDAH) dan “HIGH”
(TINGGI) (biru) menyala pada masa sama dan
operasi dihentikan.
Bahagian
elektrod
Jangan
sentuh
terminal
sambungan
[Sebelum penyelenggaraan]
[Setelah penyelenggaraan]
Menyala (biru)
Putik kapas
• Jangan sentuh bahagian elektrod. (Berbuat demikian akan menyebabkan kecederaan.)
• Bahagian elektrod tidak mengubah bentuk. (Berbuat demikian akan menyebabkan kerosakan.)
• Jangan sentuh terminal penyambungan. (Berbuat demikian akan menyebabkan kerosakan.)
• Lembapkan bahagian atas kapas kesat dengan sedikit air, jika kotoran tidak dapat
dibersihkan dengan mudah.
* Tempat-tempa di mana produk-produk penjagaan rambut (salutan hujung
bercabang, mousse rambut, rawatan rambut, dll.), kosmetik, antipeluh, agen
antistatik, semburan kalis air, pengilat, pencuci kaca, pakaian kimia terimpregnat,
lilin, dll. digunakan atau persekitaran merokok.
Elektrod (jarum)
Lilitan bahagian
tapak
IG-DC2E.MA.indd11IG-DC2E.MA.indd11 2012/04/0512:39:182012/04/0512:39:18