Fronius BIAS 300 Plasma - Allgemeines; Gerätekonzept; Funktionsprinzip; Einsatzgebiete

Allgemeines
Gerätekonzept
Plasma Spannungsquelle BIAS 300 Plasma
Die Spannungsquelle BIAS 300 Plas-
ma mit der sehr schnellen Überstrom-
Abschaltung ist eine vollkommen digi-
talisierte, mikroprozessorgesteuerte
Inverter-Spannungsquelle.
Modulares Design und einfache
Möglichkeit zur Systemerweiterung
gewährleisten eine hohe Flexibilität.
Die Spannungsquelle BIAS 300 Plas-
ma lässt sich an jede spezifische Gege-
benheit anpassen.
Funktionsprinzip Die zentrale Steuer- und Regelungseinheit der Spannungsquelle ist mit einem di-
gitalen Signalprozessor gekoppelt. Zentrale Steuer- und Regelungseinheit und
Signalprozessor steuern den gesamten Plasmaprozess.
Während des Plasmaprozesses werden laufend Ist-Daten gemessen, auf
Veränderungen wird sofort reagiert. Die vom Hersteller entwickelten Regel-Algo-
rithmen sorgen dafür, dass der gewünschte Soll-Zustand erhalten bleibt.
Daraus resultieren:
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Ein präziser Plasmaprozess,
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Eine exakte Reproduzierbarkeit sämtlicher Ergebnisse
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Hervorragende Betriebseigenschaften.
Einsatzgebiete Die BIAS 300 Plasma kann für zahlreiche Plasmaprozesse eingesetzt werden, bei
denen eine konstante Spannungsversorgung benötigt wird.
Optionen Analog-Interface BIAS 300 Plasma
zur analogen Anbindung an eine Plasmaanlage
Profibus-Interface BIAS 300 Plasma
zur Anbindung an eine Plasmaanlage mittels Profibus
Slave-Interface BIAS 300 Plasma
zur Konfiguration einer Spannungsquelle als Slave-Spannungsquelle bei
erhöhtem Leistungsbedarf > 10 kW (inkl. LHSB-Kabel und Arc-Buskabel)
Multikontakt-Stecker 60 A
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