Hach 5500sc SiO2 Installation

底の沈殿物の堆積を防止するために、サンプルラインは可能な限り短くしてください。沈殿物がサン
プルの分析対象の一部を吸収し、低い読み値の原因になる可能性があります。もしくは、沈殿物は分
析対象を放出し、高い読み値の原因になる可能性があります。沈殿物による反応により、サンプル内
の分析対象の濃度が増加または減少すると、応答に遅れが生ずる場合もあります。
図 7 サンプリング方法
1 空気 2 サンプルフロー
バイパス流量の設定
告 知
多流路の場合、ネジを 4 回転以上緩めないでください。
バイパス流量は、分析装置がシャットダウンモードのときに調整できます。図 8 または 図 9 に示す
ように、フローバルブを使用してサンプルバイパスラインの流量を調整します。サンプルの流量範囲
については、仕様 ページの 127 を参照してください。外部メーターを使用してサンプルバイパスラ
インの流量を測定します。プロセス流路が分析装置から遠くにある場合、プロセス流路の変化にすば
やく応答するには、サンプルバイパスラインの流量を増やします。
図 8 バイパス流量調整 - 単一流路
116 日本語

Hach 5500sc SiO2 Specifications

General

Power Requirements	100 - 240 VAC, 50/60 Hz
Resolution	0.001 mg/L
Light Source	LED
Detector	Photodiode
Sample Flow Rate	200 to 500 mL/min
Operating Temperature	5 to 45 °C
Sample Temperature	5 to 45 °C
Outputs	4-20 mA
Enclosure	NEMA 4X/IP66
Method	Heteropoly blue method